DB31/ 374-2006
半导体行业污染物排放标准
发布时间:2006-11-01 实施时间:2007-02-01


半导体行业是现代高科技产业的重要组成部分,但其生产过程中会产生大量的污染物,如氨气、氮氧化物、氟化物、氯化物、挥发性有机物等。这些污染物对环境和人类健康都有一定的危害,因此需要制定相应的污染物排放标准来规范半导体行业的生产过程。

DB31/ 374-2006半导体行业污染物排放标准是我国半导体行业的第一个污染物排放标准,于2006年发布实施。该标准主要包括以下内容:

1.适用范围:该标准适用于半导体行业中的各种生产工艺和设备,包括硅片制造、半导体器件制造、封装和测试等环节。

2.污染物排放限值:该标准规定了各种污染物的排放限值,如氨气、氮氧化物、氟化物、氯化物、挥发性有机物等。其中,氨气的排放限值为0.5mg/m3,氮氧化物的排放限值为50mg/m3,氟化物的排放限值为5mg/m3,氯化物的排放限值为5mg/m3,挥发性有机物的排放限值为10mg/m3。

3.监测方法:该标准规定了各种污染物的监测方法,如氨气的监测方法为GB/T 16157-1996《大气污染物氨的测定方法》等。

4.处罚措施:该标准规定了对违反排放限值的企业的处罚措施,如责令改正、罚款等。

通过制定和实施DB31/ 374-2006半导体行业污染物排放标准,可以有效地减少半导体行业的污染物排放,保护环境和人类健康。

相关标准
1. GB 16297-1996半导体生产用氨气
2. GB/T 16157-1996大气污染物氨的测定方法
3. GB/T 16158-1996大气污染物氮氧化物的测定方法
4. GB/T 16159-1996大气污染物氟化物的测定方法
5. GB/T 16160-1996大气污染物氯化物的测定方法