ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
发布时间：2004-05-18 实施时间：
ISO 17331:2004标准是一种用于收集硅片工作参考材料表面元素并通过全反射X射线荧光（TXRF）光谱法进行测定的化学方法。该标准适用于硅片工作参考材料的表面元素分析，包括金属和非金属元素。该标准的目的是提供一种可靠的方法，以便在硅片工作参考材料的表面元素分析中获得准确和可重复的结果。
该标准的主要内容包括：样品的准备、TXRF测量、数据处理和结果报告。在样品准备方面，需要将硅片工作参考材料切割成适当的大小，并使用化学方法将表面元素收集到特定的收集器上。在TXRF测量方面，需要使用TXRF仪器对收集器进行测量，并根据标准曲线计算出元素的浓度。在数据处理方面，需要对测量结果进行校正和统计分析，并生成报告。
该标准的实施可以帮助实验室和企业获得准确和可重复的硅片工作参考材料表面元素分析结果。这对于研究和开发新材料、制造半导体器件和进行质量控制非常重要。
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