干涉测量是一种常用的光学测量方法，它利用光的干涉现象来测量光学元件和光学系统的性能。干涉测量可以用于测量光学元件的形状、表面质量、折射率等参数，也可以用于测量光学系统的成像质量、波前畸变等参数。因此，干涉测量在光学和光子学领域中具有广泛的应用。

ISO/TR 14999-1:2005是一份关于干涉测量的标准，它主要涉及光学元件和光学系统的术语、定义和基本关系。该标准包括了许多与干涉测量相关的术语和定义，如干涉仪、干涉条纹、相位差、相位移等。这些术语和定义的统一可以帮助光学和光子学领域的专业人员更好地进行干涉测量和相关研究。

除了术语和定义外，ISO/TR 14999-1:2005还介绍了干涉测量中的一些基本关系，如干涉条纹的形成原理、相位差与光程差的关系、相位移与物体表面形貌的关系等。这些基本关系的了解可以帮助光学和光子学领域的专业人员更好地理解干涉测量的原理和应用。

总之，ISO/TR 14999-1:2005是一份重要的光学和光子学标准，它为干涉测量提供了一个统一的术语和定义体系，帮助光学和光子学领域的专业人员更好地进行干涉测量和相关研究。

相关标准
ISO 10110-1:2019 光学元件和光学系统——制造规范——第1部分：表面和边缘缺陷
ISO 10110-2:2019 光学元件和光学系统——制造规范——第2部分：中心偏差、倾斜和厚度变化
ISO 10110-3:2019 光学元件和光学系统——制造规范——第3部分：表面形状
ISO 10110-4:2019 光学元件和光学系统——制造规范——第4部分：表面质量
ISO 10110-5:2019 光学元件和光学系统——制造规范——第5部分：涂层