ISO 17331:2004/Amd 1:2010
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy — Amendment 1
发布时间:2010-07-05 实施时间:


ISO 17331:2004/Amd 1:2010标准是一项表面化学分析标准,旨在提供一种用于收集硅片工作参考材料表面元素并通过全反射X射线荧光光谱法进行确定的化学方法。该标准适用于硅片工作参考材料的表面元素分析,包括金属、半金属和非金属元素。

该标准的修订版是为了提高测试的准确性和可重复性。修订版中增加了一些额外要求,包括对样品的准备和处理、仪器的校准和检验、测试的数据处理和分析等方面的详细说明。此外,修订版还增加了一些新的测试参数,以提高测试的灵敏度和准确性。

该标准的实施需要一些专业的设备和技术,包括全反射X射线荧光光谱仪、样品制备设备、化学试剂等。在实施过程中,需要严格遵守标准中的各项要求,以确保测试结果的准确性和可靠性。

总之,ISO 17331:2004/Amd 1:2010标准是一项重要的表面化学分析标准,对于硅片工作参考材料的表面元素分析具有重要的意义。该标准的实施需要一定的专业知识和技术,但可以提供准确、可靠的测试结果,为相关领域的研究和应用提供有力的支持。

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