ISO 14237:2010标准是一种表面化学分析方法，使用次级离子质谱法测定硅中硼原子浓度。该标准适用于使用均匀掺杂材料的硅样品。该标准的目的是为了提供一种测量硅中硼原子浓度的标准方法，以便在半导体工业中使用。

该标准规定了测量硅中硼原子浓度的方法，包括样品制备、次级离子质谱仪的操作和数据处理。该标准要求使用均匀掺杂材料制备硅样品，以确保测量结果的准确性和可重复性。在测量过程中，需要对样品进行表面清洁和离子轰击，以确保测量结果的准确性。

该标准的实施需要使用次级离子质谱仪进行测量。次级离子质谱仪是一种高灵敏度的分析仪器，可以测量样品中的元素浓度和分布。在测量过程中，需要对样品进行离子轰击，以产生次级离子，并使用质谱仪测量次级离子的质量和数量。通过测量次级离子的质量和数量，可以确定样品中硼原子的浓度。

该标准的实施需要严格遵守操作规程和数据处理要求。在测量过程中，需要对样品进行多次测量，并对测量结果进行统计分析，以确保测量结果的准确性和可靠性。同时，需要对测量结果进行误差分析和不确定度评估，以确定测量结果的可信度。

总之，ISO 14237:2010标准是一种测量硅中硼原子浓度的标准方法，适用于半导体工业中的硅材料分析。该标准要求使用次级离子质谱仪进行测量，并严格遵守操作规程和数据处理要求，以确保测量结果的准确性和可靠性。

相关标准
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- ISO 18115-2:2013 表面化学分析——次级离子质谱法——第2部分：仪器性能
- ISO 18115-3:2013 表面化学分析——次级离子质谱法——第3部分：数据处理
- ISO 18115-4:2013 表面化学分析——次级离子质谱法——第4部分：样品制备
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