表面化学分析是一种用于研究材料表面化学性质的方法。溅射深度剖析是表面化学分析中的一种重要方法，它可以用于研究材料的表面成分和结构。溅射深度剖析是通过将离子束或中性粒子束轰击样品表面，使样品表面的原子或分子被剥离并飞出，然后通过分析飞出的原子或分子的能量和数量来确定样品的成分和结构。

在进行溅射深度剖析时，为了获得最佳的深度分辨率和深度精度，需要使用参考材料进行优化。分层系统是一种常用的参考材料，它是由多层薄膜组成的样品。每一层薄膜的成分和厚度都是已知的，因此可以用来确定溅射深度剖析的深度分辨率和深度精度。

ISO 14606:2015标准规定了使用分层系统作为参考材料进行溅射深度剖析的优化方法。该标准包括以下步骤：

1. 选择合适的分层系统作为参考材料；
2. 确定分层系统中每一层薄膜的成分和厚度；
3. 进行溅射深度剖析，并记录得到的数据；
4. 分析数据，确定深度分辨率和深度精度；
5. 根据分析结果，优化溅射深度剖析的参数，以获得最佳的深度分辨率和深度精度。

使用ISO 14606:2015标准中规定的方法进行溅射深度剖析的优化，可以提高溅射深度剖析的准确性和可靠性，从而更好地研究材料的表面成分和结构。

相关标准
- ISO 18115-1:2016 表面化学分析——X射线光电子能谱（XPS）——第1部分：术语和定义
- ISO 18115-2:2016 表面化学分析——X射线光电子能谱（XPS）——第2部分：仪器性能和校准
- ISO 18115-3:2016 表面化学分析——X射线光电子能谱（XPS）——第3部分：数据采集和处理
- ISO 18116:2015 表面化学分析——扫描电子显微镜（SEM）——术语和定义
- ISO 18117:2014 表面化学分析——透射电子显微镜（TEM）——术语和定义