ISO 10110-9:2016是一份非常重要的标准，它规定了光学元件和系统表面处理和涂层的制图要求。在光学元件和系统的制造过程中，表面处理和涂层是非常重要的步骤，它们可以改善光学元件和系统的性能，提高其使用寿命和可靠性。因此，本标准的实施对于保证光学元件和系统的质量和性能具有重要意义。

本标准规定了光学元件和系统表面处理和涂层的制图要求，包括表面处理和涂层的位置、形状、尺寸、材料和特定要求等。其中，表面处理包括机械加工、化学加工、电化学加工、热处理、光学加工等，涂层包括金属薄膜、介质薄膜、多层膜等。本标准还规定了表面处理和涂层的符号和标记方法，以便于制造和检验过程中的识别和追踪。

本标准适用于所有类型的光学元件和系统，包括透镜、棱镜、反射镜、光学滤波器、光学涂层等。它适用于所有制图形式，包括手绘图、计算机辅助设计图等。此外，本标准还规定了光学元件和系统表面处理和涂层的检验方法和标准，以确保其符合制图要求和性能要求。

总之，ISO 10110-9:2016是一份非常重要的标准，它规定了光学元件和系统表面处理和涂层的制图要求，对于保证光学元件和系统的质量和性能具有重要意义。在光学元件和系统的制造过程中，应该严格按照本标准的要求进行制图、制造和检验，以确保其符合性能要求和使用寿命要求。

相关标准
- ISO 10110-1:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第1部分：一般规定
- ISO 10110-2:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第2部分：表面和边缘缺陷
- ISO 10110-3:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第3部分：表面形状误差
- ISO 10110-4:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第4部分：表面质量
- ISO 10110-5:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第5部分：涂层