半导体光催化材料是一种具有自清洁性能的材料，可以通过光催化反应分解有机物和杀灭细菌等。在实际应用中，半导体光催化材料的自清洁性能是一个重要的指标，因为它直接影响到材料的使用寿命和清洁效果。因此，需要一种可靠的测试方法来评估半导体光催化材料的自清洁性能。

ISO 19810:2017标准规定了一种测量半导体光催化材料自清洁性能的测试方法，即测量水接触角。该方法的基本原理是，通过测量水滴在材料表面的接触角来评估材料的自清洁性能。当水滴在材料表面的接触角越小，说明材料表面越容易被水湿润，也就意味着材料表面的自清洁性能越好。

该标准规定了测试方法的具体步骤和要求。首先，需要准备好测试样品，并将其放置在室内照明环境下。然后，将一滴水滴在样品表面，并使用接触角仪测量水滴在样品表面的接触角。最后，根据测量结果评估样品的自清洁性能。

需要注意的是，该标准只适用于室内照明环境下的测试，因为室外环境的光照强度和光谱分布会对测试结果产生影响。此外，该标准还规定了测试样品的尺寸、形状和表面处理要求等具体要求，以确保测试结果的准确性和可重复性。

总之，ISO 19810:2017标准为半导体光催化材料的自清洁性能测试提供了一种可靠的方法，可以帮助制定相关标准和规范，促进半导体光催化材料的应用和发展。

相关标准
ISO 27447:2009——半导体光催化材料的光催化活性测量方法
ISO 27448:2009——半导体光催化材料的光催化氧化能力测量方法
ISO 27449:2009——半导体光催化材料的光催化降解能力测量方法
ISO 27450:2009——半导体光催化材料的光催化杀菌能力测量方法
ISO 27451:2009——半导体光催化材料的光催化还原能力测量方法