干涉测量是一种非常重要的光学测量方法，可以用于测量光学元件和光学系统的形状、表面质量、折射率、厚度等参数。干涉测量的基本原理是利用光的干涉现象，通过测量干涉条纹的形态和位置来确定被测物体的形状和表面质量等参数。干涉测量具有高精度、高灵敏度、非接触等优点，因此在光学制造、光学检测、光学研究等领域得到了广泛应用。

ISO/TR 14999-2:2019规定了光学元件和光学系统的干涉测量和评估技术。该标准包括了干涉测量的基本原理、测量方法、数据处理和评估技术等内容。具体来说，该标准包括以下内容：

1. 干涉测量的基本原理：介绍了干涉测量的基本原理和干涉条纹的形成机制，包括相干光源、干涉仪、干涉条纹的形态和位置等。

2. 干涉测量的测量方法：介绍了干涉测量的各种测量方法，包括横向干涉、纵向干涉、白光干涉、相位移干涉等。

3. 干涉测量的数据处理：介绍了干涉测量的数据处理方法，包括相位提取、相位展开、相位修正等。

4. 干涉测量的评估技术：介绍了干涉测量的评估技术，包括表面形状、表面质量、折射率、厚度等参数的评估方法。

5. 干涉测量的应用：介绍了干涉测量在光学制造、光学检测、光学研究等领域的应用。

总之，ISO/TR 14999-2:2019为光学元件和光学系统的干涉测量提供了一套完整的测量和评估技术，可以帮助光学工程师和研究人员更好地进行光学测量和研究。

相关标准
ISO 10110-5:2019 光学元件和光学系统-制造规范-第5部分：表面质量
ISO 10110-6:2019 光学元件和光学系统-制造规范-第6部分：表面形状
ISO 10110-7:2019 光学元件和光学系统-制造规范-第7部分：表面缺陷
ISO 10110-8:2019 光学元件和光学系统-制造规范-第8部分：表面清洁度
ISO 10110-9:2019 光学元件和光学系统-制造规范-第9部分：表面光学特性