ISO 10110-8:2019标准是光学和光子学领域的一项重要标准,主要涉及光学元件和系统制图中表面纹理的要求。表面纹理是指光学元件和系统表面的形状、粗糙度、波动和缺陷等方面的特征。这些特征对光学元件和系统的性能和质量有着重要的影响,因此在制图过程中需要对其进行严格的要求和控制。
ISO 10110-8:2019标准规定了光学元件和系统表面纹理的制图要求,包括表面形状、表面粗糙度、表面波动和表面缺陷等方面。其中,表面形状是指光学元件和系统表面的几何形状,包括平面、球面、非球面等形状。表面粗糙度是指表面的微小起伏和不规则性,通常用Ra值来表示。表面波动是指表面的整体形状偏差,通常用PV值来表示。表面缺陷是指表面上的缺陷和瑕疵,包括划痕、气泡、裂纹等。
ISO 10110-8:2019标准还规定了制图中需要考虑的其他因素,如表面处理、表面涂层、表面清洁等。这些因素也会对光学元件和系统的性能和质量产生影响,因此需要在制图过程中进行考虑和控制。
ISO 10110-8:2019标准的制定旨在确保光学元件和系统的表面纹理符合要求,从而保证其性能和质量。该标准适用于光学元件和系统的制图,包括设计、制造、检验和使用等方面。通过遵循该标准的要求,可以有效地控制光学元件和系统的表面纹理,提高其性能和质量,从而满足不同应用领域的需求。
相关标准
ISO 10110-1:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第1部分:一般规定
ISO 10110-2:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第2部分:材料
ISO 10110-3:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第3部分:表面和边缘
ISO 10110-4:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第4部分:涂层
ISO 10110-5:2019 光学和光子学——光学元件和系统制图的准备——第5部分:光学元件和系统的组装