ISO/TR 15969:2021
Surface chemical analysis — Depth profiling — Measurement of sputtered depth
发布时间:2021-03-17 实施时间:


表面化学分析是一种研究材料表面化学和物理性质的重要手段,可以帮助科学家和工程师更好地了解材料的结构、组成、形貌和性能等方面的信息。深度剖析和溅射深度测量是表面化学分析中常用的技术手段之一,可以用来测量材料表面的化学成分和结构随深度的变化情况。

深度剖析是一种通过化学或物理手段逐层剥离材料表面的方法,可以得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。深度剖析的常用方法包括离子束刻蚀、化学剥离、电化学剥离等。离子束刻蚀是一种通过离子束轰击材料表面,使其逐渐剥离的方法,可以得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。化学剥离是一种通过化学反应将材料表面逐层剥离的方法,可以得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。电化学剥离是一种通过电化学反应将材料表面逐层剥离的方法,可以得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。

溅射深度测量是一种通过离子束轰击材料表面,使其逐渐剥离的方法,可以得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。溅射深度测量的原理是利用离子束轰击材料表面,使其逐渐剥离,并通过质谱仪等设备对剥离的材料进行分析,从而得到材料表面化学成分和结构随深度的变化情况。

ISO/TR 15969:2021提供了深度剖析和溅射深度测量的详细操作指南和数据分析方法,可以帮助科学家和工程师更好地了解材料的表面化学和物理性质。该标准的实施可以为材料的设计、制备和应用提供更加准确和可靠的数据支持。

相关标准
- ISO 18115:2016 表面化学分析-溅射深度测量-数据分析
- ISO 18116:2016 表面化学分析-溅射深度测量-实验方法
- ISO 14644-1:2015 纯净室和相关受控环境的分类
- ISO 14644-2:2015 纯净室和相关受控环境的监测
- ISO 14644-3:2019 纯净室和相关受控环境的试验和试验方法