掩模对准曝光机是半导体集成电路制造中的重要设备之一，其主要作用是将掩模上的图形准确地转移到硅片上，以实现芯片的制造。为了保证掩模对准曝光机的准确性和稳定性，需要进行测试。SJ/T 10274-1991《掩模对准曝光机测试方法》就是为了解决这个问题而制定的。

该标准主要包括以下内容：

1. 测试方法：该标准规定了掩模对准曝光机的测试方法，包括测试仪器、测试步骤等。

2. 测试仪器：该标准规定了测试掩模对准曝光机所需的测试仪器，包括光学显微镜、掩模对准仪、曝光仪等。

3. 测试步骤：该标准规定了测试掩模对准曝光机的具体步骤，包括准备工作、测试前的校准、测试过程中的操作等。

通过对掩模对准曝光机进行测试，可以检测出其准确性和稳定性是否符合要求，从而保证芯片的制造质量。

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