微电子学光掩蔽技术是一种重要的微电子制造技术，它是通过光学投影将芯片电路图案投影到光掩膜上，再通过光刻技术将芯片电路图案转移到硅片上的过程。在这个过程中，需要使用大量的术语来描述各种技术参数和操作步骤，因此制定一份规范的术语标准对于技术交流和合作具有重要意义。

SJ/T 10584-1994 微电子学光掩蔽技术术语标准共包含了60个术语及其定义，其中包括了光掩膜、光刻胶、曝光、显影、对准等常用术语。这些术语的定义都经过了严格的审定和讨论，确保了其准确性和规范性。

例如，该标准中对于“光掩膜”的定义为：“用于光刻的透明或半透明基片，其表面上有芯片电路的图案，用于将芯片电路图案投影到光刻胶上。”这个定义清晰地描述了光掩膜的作用和结构，有助于避免在技术交流中出现术语混淆和误解。

此外，该标准还对一些常用的缩写和符号进行了规范，如“NA”表示数值孔径，“μm”表示微米等。这些符号的规范化有助于提高技术交流的效率和准确性。

总之，SJ/T 10584-1994 微电子学光掩蔽技术术语标准是微电子学光掩蔽技术领域中的一份重要标准，它规范了术语的使用，提高了技术交流和合作的效率，对于推动微电子学光掩蔽技术的发展具有重要意义。

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