集成电路是现代电子技术的重要组成部分，其制造过程需要使用各种工艺设备。为了方便行业内人员的交流和理解，需要对这些工艺设备进行统一的术语和定义。SJ/T 10152-1991 集成电路主要工艺设备术语就是为此而制定的标准。

该标准共分为六个部分，分别是：通用术语、光刻术语、薄膜沉积术语、离子注入术语、化学腐蚀术语和清洗术语。其中，通用术语部分包括了与集成电路制造过程中常用的各种工艺设备相关的术语和定义，如“氧化炉”、“扫描电镜”、“离子束刻蚀机”等。其他五个部分则分别对应了不同的工艺设备类型，列出了相应的术语和定义。

该标准的制定，对于集成电路制造行业的规范化和标准化起到了积极的推动作用。通过统一术语和定义，可以避免因为不同人员对同一术语的理解不同而导致的沟通障碍和误解，提高工作效率，降低生产成本。同时，该标准也为行业内人员的培训和学习提供了便利，有助于提高行业整体水平。

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