SJ/T 11489-2015
低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法
发布时间:2015-04-30 实施时间:2015-10-01


1.范围
本标准适用于低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量。

2.引用标准
下列标准文件中的条款通过引用本标准成为本标准的条款。对于引用文件的修改版本,本标准不适用,但对于引用文件的未修改版本,本标准仍适用。

GB/T 8170-2008 数字化处理的数据表示和交换格式

3.术语和定义
本标准所涉及的术语和定义与GB/T 8170-2008中的术语和定义相同。

4.测量原理
在磷化铟抛光片表面形成的蚀坑中,低位错密度的磷化铟晶体会被溶解,而高位错密度的磷化铟晶体则不会被溶解。通过计算蚀坑中低位错密度磷化铟晶体的面积比例,可以得到低位错密度磷化铟抛光片的蚀坑密度。

5.仪器设备
5.1 显微镜:放大倍数不小于100倍,分辨率不小于0.5μm。
5.2 数字图像处理系统:分辨率不小于0.5μm。

6.试验样品
试验样品应符合以下要求:
6.1 试验样品应为低位错密度磷化铟抛光片。
6.2 试验样品应经过清洗和干燥处理。

7.试验步骤
7.1 在显微镜下观察试验样品表面,选择蚀坑密度较高的区域进行测量。
7.2 在数字图像处理系统中,对所选区域进行图像采集和处理,得到蚀坑密度图像。
7.3 在蚀坑密度图像中,通过计算低位错密度磷化铟晶体的面积比例,得到低位错密度磷化铟抛光片的蚀坑密度。

8.结果表示
测量结果应表示为低位错密度磷化铟抛光片的蚀坑密度,单位为个/mm²。

9.精度和偏差
9.1 精度:测量结果的相对误差不应大于5%。
9.2 偏差:测量结果的偏差不应大于5%。

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