1.范围
本标准适用于低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量。

2.引用标准
下列标准文件中的条款通过引用成为本标准的条款。对于标注日期的引用文件，仅引用文件的版本适用于本标准。对于未标注日期的引用文件，其最新版本（包括所有修改单）适用于本标准。

GB/T 8170 数字表示法和圆整规则
GB/T 12528 硅单晶衬底表面缺陷检测方法
GB/T 13926.1 金属和非金属涂层腐蚀试验 第1部分：一般规定
GB/T 13926.2 金属和非金属涂层腐蚀试验 第2部分：电化学腐蚀试验
GB/T 13926.3 金属和非金属涂层腐蚀试验 第3部分：人工加速腐蚀试验

3.术语和定义
本标准所涉及的术语和定义与GB/T 12528相同。

4.测量原理
在砷化镓抛光片表面，用显微镜观察其表面缺陷，包括蚀坑、划痕、裂纹等，然后计算其蚀坑密度。

5.仪器设备
5.1 显微镜：放大倍数不小于50倍，分辨率不小于0.5μm。
5.2 光源：白炽灯或LED灯。
5.3 量角器：分度值不大于1°。

6.样品制备
6.1 样品应选取表面平整、无明显缺陷的区域进行测量。
6.2 样品表面应清洁干净，无油污、指纹等污染物。
6.3 样品应在室温下放置24h以上，以达到与环境温度平衡。

7.测量步骤
7.1 将样品放在显微镜下，调整放大倍数和焦距，使样品表面清晰可见。
7.2 用量角器测量显微镜视场大小，记录下视场直径d（单位：mm）。
7.3 在显微镜下，用光源照射样品表面，观察其表面缺陷，包括蚀坑、划痕、裂纹等。
7.4 在视场内，随机选取10个不同的区域进行观察，记录下每个区域内蚀坑的数量n1、n2、n3……n10。
7.5 计算蚀坑密度：D=Σni/(πd2/4)，单位：个/mm2。

8.结果表示
8.1 测量结果应保留至少两位小数。
8.2 应将测量结果按照样品编号、测量日期、测量人员等信息记录在测量记录表中。

9.质量控制
9.1 为保证测量结果的准确性和可靠性，应在每次测量前进行仪器校准。
9.2 为保证测量结果的可比性，应在同一实验室、同一仪器设备、同一测量条件下进行测量。
9.3 为保证测量结果的稳定性，应在同一样品上进行多次测量，计算平均值和标准偏差。

相关标准
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SJ/T 11489-2015 低位错密度砷化镓抛光片的测量方法