光掩模是半导体制造中的重要工具，用于制作微电子器件的图形。图形发生器是光掩模制作的关键设备之一，其主要作用是生成微电子器件的图形。为了保证光掩模的质量和稳定性，必须对图形发生器进行完好要求和检查评定。

本标准主要包括以下内容：

1.术语和定义：对本标准中使用的术语和定义进行了说明。

2.完好要求：对图形发生器的完好要求进行了详细描述，包括外观、电气性能、机械性能、光学性能等方面。

3.检查评定方法：对图形发生器的检查评定方法进行了详细说明，包括检查前的准备工作、检查内容、检查方法、检查结果的判定等方面。

本标准适用于光掩模制作用图形发生器的完好要求和检查评定，可作为制造厂家、用户和检测机构的参考依据。

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