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实验室用盘式抛光机是一种常用的试验设备，用于对各种材料进行抛光处理，以获得光滑的表面。为了保证实验结果的准确性和可靠性，需要对实验室用盘式抛光机进行技术条件的规定。本标准就是为此而制定的。

1. 结构
实验室用盘式抛光机主要由电机、转盘、抛光盘、抛光液供给系统、控制系统等组成。其中，电机是驱动转盘旋转的动力源，转盘是支撑抛光盘的基础，抛光盘是用于抛光的工具，抛光液供给系统是提供抛光液的设备，控制系统是用于控制抛光机的运行状态。

2. 性能
实验室用盘式抛光机的性能应符合以下要求：
（1）转速范围：0-1000r/min；
（2）抛光盘直径：250mm；
（3）抛光盘转速误差：≤±5%；
（4）抛光液供给量：0-100ml/min；
（5）控制方式：手动或自动；
（6）电源：AC220V±10%，50Hz。

3. 使用要求
实验室用盘式抛光机在使用时应注意以下要求：
（1）操作人员应熟悉抛光机的使用方法和安全注意事项；
（2）使用前应检查抛光机的各项性能指标是否符合要求；
（3）使用时应按照操作说明进行操作，不得超负荷使用；
（4）使用后应及时清洗抛光盘和抛光液供给系统，保持设备清洁。

4. 试验方法
实验室用盘式抛光机的试验方法应符合以下要求：
（1）试验前应检查抛光机的各项性能指标是否符合要求；
（2）试验时应按照试验方法进行操作，记录试验数据；
（3）试验后应及时清洗抛光盘和抛光液供给系统，保持设备清洁。

相关标准：
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