铌靶是一种常用的平面磁控溅射靶材，广泛应用于光学薄膜、电子器件、太阳能电池等领域。YS/T 718-2009 标准规定了铌靶的分类、要求、试样制备、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等方面的内容。

1. 分类和要求
铌靶按照制备方法分为热压铸造和粉末冶金两种类型。标准规定了铌靶的化学成分、杂质含量、密度、晶粒度、表面质量、尺寸和形状等要求。其中，铌靶的化学成分应符合标准要求，杂质含量应控制在一定范围内，密度应达到一定的要求，晶粒度应小于等于100μm，表面质量应平整光滑，尺寸和形状应符合标准规定。

2. 试样制备
标准规定了铌靶试样的制备方法，包括试样的切割、抛光和清洗等步骤。试样的尺寸和形状应符合标准规定，表面应平整光滑，无明显划痕和氧化层。

3. 试验方法
标准规定了铌靶的试验方法，包括化学成分分析、杂质含量测定、密度测定、晶粒度测定、表面质量检验、尺寸和形状检验等方面的内容。试验方法应符合标准规定，并应在合适的实验条件下进行。

4. 检验规则
标准规定了铌靶的检验规则，包括检验项目、检验方法、检验结果判定和允许的缺陷等方面的内容。铌靶应符合标准规定的要求，不得有明显的缺陷和不良现象。

5. 标志、包装、运输和贮存
标准规定了铌靶的标志、包装、运输和贮存等方面的内容。铌靶应在包装标志上注明铌靶的名称、规格、批号、生产厂家等信息，包装应符合标准规定的要求，运输和贮存应注意防潮、防震、防晒等措施。

相关标准
GB/T 6987-1986 金属材料 试样制备方法
GB/T 8170-2008 数值航空产品规范与检验通用规定
GB/T 10561-2005 金属材料 密度测定方法
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