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铂钌合金薄膜是一种常用的材料，广泛应用于电子、化学、医学等领域。铂钌合金薄膜中铂和钌的含量是影响其性能的重要因素。因此，准确测定铂钌合金薄膜中铂和钌的含量对于材料的研究和应用具有重要意义。

本标准采用X射线光电子能谱法测定铂钌合金薄膜中合金态铂及合金态钌含量。该方法具有灵敏度高、分辨率好、非破坏性等优点，能够准确测定铂钌合金薄膜中铂和钌的含量。

具体操作步骤如下：

1. 样品制备：将铂钌合金薄膜样品切割成适当大小，并在样品表面清洗去除表面污染物。

2. 仪器准备：打开X射线光电子能谱仪，进行仪器的预热和校准。

3. 测量样品：将样品放置在样品台上，调整样品位置和角度，使得样品表面与X射线垂直，并且能够接收到光电子。然后进行X射线照射，测量样品的光电子能谱图。

4. 数据处理：对测量得到的光电子能谱图进行峰位分析和峰面积计算，得到铂和钌的峰面积。然后根据标准曲线计算出铂和钌的含量。

本标准还规定了样品制备、仪器准备、测量条件等方面的要求和注意事项。

相关标准：
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