镍铂靶材是一种用于制备薄膜的材料，广泛应用于半导体、光电子、信息存储等领域。本标准主要针对镍铂靶材的制备、性能要求、检验方法、包装、标志、贮存等方面进行规定，以保证其质量和使用效果。

1. 制备
镍铂靶材的制备应符合以下要求：
（1）原材料应为高纯度的镍和铂；
（2）采用真空电弧熔炼或真空感应熔炼的方法制备；
（3）制备过程中应注意控制熔炼温度、保持真空度、避免氧化等。

2. 性能要求
镍铂靶材的性能应符合以下要求：
（1）化学成分应符合标准要求；
（2）密度应≥99%理论密度；
（3）晶粒度应均匀细小；
（4）表面应光洁平整，无气孔、裂纹等缺陷。

3. 检验方法
镍铂靶材的检验方法应符合以下要求：
（1）化学成分检验应采用化学分析方法；
（2）密度检验应采用水银密度计或氦放电密度计；
（3）晶粒度检验应采用金相显微镜；
（4）表面检验应采用目视检查或显微镜检查。

4. 包装
镍铂靶材的包装应符合以下要求：
（1）应采用防震、防潮、防腐蚀的包装材料；
（2）包装应牢固可靠，防止在运输过程中发生损坏。

5. 标志
镍铂靶材的标志应包括以下内容：
（1）材料名称；
（2）化学成分；
（3）制备方法；
（4）生产厂家；
（5）生产日期或批号。

6. 贮存
镍铂靶材的贮存应符合以下要求：
（1）应存放在干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中；
（2）应避免与其他金属材料接触，以免发生化学反应。

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