YS/T 229.4-2013
高纯铅化学分析方法 第4部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
发布时间:2013-10-17 实施时间:2014-03-01


高纯铅是一种纯度较高的铅材料,其主要用途是制造半导体材料、核反应堆材料、X射线保护材料等。高纯铅中痕量杂质元素的含量对其性能有很大影响,因此需要对其进行精确的分析。本标准介绍了一种测定高纯铅中痕量杂质元素含量的方法——辉光放电质谱法。

辉光放电质谱法是一种常用的痕量元素分析方法,其原理是将样品放置在真空中,通过高压电场使样品发生放电,产生辉光,然后利用质谱仪对辉光进行分析,从而确定样品中痕量元素的含量。该方法具有灵敏度高、选择性好、分析速度快等优点,适用于痕量元素的分析。

本标准中,样品的制备方法包括溶解法和熔融法。溶解法适用于含量较低的元素,熔融法适用于含量较高的元素。样品制备后,将其放置在真空中进行放电,然后利用质谱仪对辉光进行分析,从而确定样品中痕量元素的含量。

本标准中,测定的元素包括铜、铁、锌、镍、钴、钙、镁、铝、钒、锰、钛、铬、银、锡、铅、硒、砷、锑、汞、铂、金、铯、铷、钾、钡、锶、钡、铊、铅等。测定的元素范围较广,可以满足不同应用领域的需求。

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