高纯铋是一种重要的材料，广泛应用于半导体、光电子、航空航天等领域。高纯铋中痕量杂质元素的含量对其性能有着重要的影响，因此需要对其进行精确的测定。本标准规定了辉光放电质谱法测定高纯铋中痕量杂质元素含量的方法。

辉光放电质谱法是一种常用的化学分析方法，其原理是将样品放置在真空中，通过高压电场使其发生放电，产生等离子体，然后通过质谱仪进行分析。该方法具有灵敏度高、分辨率高、准确度高等优点，适用于痕量元素的分析。

本标准中，样品的制备需要采用高纯度的铋粉，并通过多次熔炼、真空处理等步骤进行精细处理，以保证样品的纯度。然后将样品放置在真空中进行放电，产生等离子体。通过质谱仪进行分析，得到各元素的质谱峰。根据质谱峰的强度和已知标准品的浓度，可以计算出样品中各元素的含量。

本标准中，测定的元素包括铝、钙、铬、铜、铁、镁、镍、铅、硅、钠、锡、锰、钛、钨、锌、锆等16种元素。其中，铝、钙、铬、铜、铁、镁、镍、铅、硅、钠、锡、锰、钛、钨、锌、锆的检出限均小于0.1μg/g。

相关标准
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