高纯铜是一种重要的工业材料，广泛应用于电子、航空、航天、军工等领域。高纯铜的杂质元素含量对其性能有很大影响，因此需要对高纯铜中的痕量杂质元素进行分析。本标准采用辉光放电质谱法进行分析，具有灵敏度高、准确度高、选择性好等优点。

1.范围
本标准适用于高纯铜中痕量杂质元素含量的测定。

2.仪器设备
2.1 辉光放电质谱仪
2.2 氩气瓶
2.3 氢气瓶
2.4 氮气瓶
2.5 氧气瓶
2.6 氦气瓶
2.7 氩气净化器
2.8 氢气净化器
2.9 氮气净化器
2.10 氧气净化器
2.11 氦气净化器
2.12 气瓶连接管路
2.13 气瓶减压器
2.14 气瓶气压表
2.15 气瓶气流量计
2.16 气瓶气体过滤器
2.17 气瓶气体干燥器
2.18 气瓶气体分配器
2.19 气瓶气体阀门
2.20 气瓶气体压力传感器
2.21 气瓶气体流量传感器
2.22 气瓶气体温度传感器
2.23 气瓶气体湿度传感器
2.24 计算机

3.试剂和材料
3.1 高纯铜样品
3.2 氩气
3.3 氢气
3.4 氮气
3.5 氧气
3.6 氦气
3.7 高纯氮气
3.8 高纯氧气
3.9 高纯氦气

4.分析步骤
4.1 样品制备
将高纯铜样品研磨成粉末状，粒径小于0.1mm，然后将样品放入石英舟中，用氩气保护，放入辉光放电质谱仪中进行分析。
4.2 仪器操作
按照辉光放电质谱仪的操作说明进行操作。
4.3 数据处理
按照辉光放电质谱仪的数据处理方法进行处理。

5.结果表示
结果应该按照辉光放电质谱仪的数据处理方法进行表示。

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