锗粒是一种重要的锗材料，广泛应用于半导体、光电子、化工等领域。为了保证锗粒的质量，需要对其进行化学分析和质量控制。本标准就是为了规范锗粒的化学分析方法和质量控制要求而制定的。

本标准适用于锗粒的化学分析和质量控制。其中，化学分析包括锗粒中杂质元素的测定和锗的纯度测定；质量控制包括锗粒的外观、尺寸、密度、杂质含量等方面的要求。

化学分析方法主要包括原子吸收光谱法、电感耦合等离子体发射光谱法、电感耦合等离子体质谱法、X射线荧光光谱法等。这些方法各有优缺点，应根据实际情况选择合适的方法进行分析。

质量控制要求主要包括以下几个方面：

1. 外观要求：锗粒应呈现出均匀的银灰色，表面应光滑无裂纹、气泡等缺陷。

2. 尺寸要求：锗粒的尺寸应符合生产厂家的规定，一般为直径在1-10mm之间。

3. 密度要求：锗粒的密度应符合生产厂家的规定，一般为5.32-5.35g/cm³之间。

4. 杂质含量要求：锗粒中杂质元素的含量应符合生产厂家的规定，一般要求杂质元素的含量低于0.1%。

本标准的实施可以有效保证锗粒的质量，提高锗材料的应用性能，促进锗材料产业的发展。

相关标准
GB/T 6909-2008 金属及其化合物化学分析方法 第4部分：锗的测定
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