钼靶材是一种用于制备薄膜的重要材料，广泛应用于半导体、光电子、涂层等领域。为了保证钼靶材的质量和性能，制定了YS/T 1063-2015 钼靶材标准。

该标准规定了钼靶材的制备方法，包括热压法、热等静压法、热等静压烧结法、电子束熔炼法等。同时，还规定了钼靶材的化学成分、密度、晶粒度、显微组织等性能指标。

为了保证钼靶材的质量，该标准还规定了钼靶材的检验方法，包括化学成分分析、密度测定、晶粒度测定、显微组织观察等。同时，还规定了钼靶材的标志、包装、运输、贮存等要求。

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