工业硅粉是一种重要的无机化工原料，广泛应用于电子、光电、建材、化工等领域。其中二氧化硅是工业硅粉的主要成分之一，其含量的测定对于工业生产和质量控制具有重要意义。本标准旨在规定工业硅粉中二氧化硅含量的测定方法，采用X射线衍射K值法进行定量相分析。

1. 范围
本标准适用于工业硅粉中二氧化硅含量的测定。

2. 原理
将待测样品与已知量的标准样品混合，进行X射线衍射分析，通过计算K值来确定样品中二氧化硅的含量。

3. 仪器设备
本标准所需的仪器设备包括X射线衍射仪、样品研磨机、样品容器等。

4. 样品制备
将待测样品和标准样品分别研磨成粉末状，混合均匀后装入样品容器中。

5. 操作步骤
（1）将样品容器放入X射线衍射仪中，进行扫描。
（2）根据扫描结果计算出K值。
（3）根据K值计算出样品中二氧化硅的含量。

6. 结果计算
样品中二氧化硅的含量计算公式为：SiO2(%) = K×C×100%/W，其中K为K值，C为标准样品中二氧化硅的含量，W为样品重量。

7. 精密度和准确度
本方法的相对标准偏差不大于5%。

相关标准
GB/T 6909-2008 工业硅粉
GB/T 6908-2017 工业硅粉化学分析方法
GB/T 6907-2017 工业硅粉物理性能测定方法
GB/T 6906-2017 工业硅粉颗粒度分析方法
GB/T 6905-2017 工业硅粉质量控制方法