掺锡氧化铟粉是一种重要的半导体材料，广泛应用于光电子、显示器件等领域。物相分析是掺锡氧化铟粉的重要性能指标之一，可以通过X射线衍射分析法进行测试。本标准规定了掺锡氧化铟粉物相分析的X射线衍射分析方法。

1.范围
本标准适用于掺锡氧化铟粉物相分析的X射线衍射分析方法。

2.仪器设备
2.1 X射线衍射仪
2.2 样品制备设备

3.试验方法
3.1 样品制备
将掺锡氧化铟粉样品制备成均匀的薄片，厚度不超过0.5mm。
3.2 仪器参数设置
3.2.1 X射线管电压：40kV
3.2.2 X射线管电流：40mA
3.2.3 扫描速度：2°/min
3.2.4 扫描范围：10°~80°
3.3 试验操作
将样品放置在X射线衍射仪的样品台上，调整好仪器参数，开始扫描。记录衍射图谱，并进行数据处理。

4.数据处理
4.1 样品物相的鉴定
通过比对标准物相库，确定样品中的物相种类及含量。
4.2 样品物相的定量分析
通过计算峰面积或峰高，计算出样品中各物相的含量。

5.结果表示
5.1 样品物相的鉴定结果
列出样品中的物相种类及含量。
5.2 样品物相的定量分析结果
列出样品中各物相的含量。

相关标准
GB/T 6908-2017 金属和合金的X射线衍射分析方法
GB/T 6909-2008 无机化合物的X射线衍射分析方法
GB/T 6907-2017 金属和合金的粉末衍射分析方法
GB/T 6906-2017 无机化合物的粉末衍射分析方法
GB/T 6905-2017 无机化合物的单晶衍射分析方法