高纯钼是一种重要的金属材料，广泛应用于航空、航天、电子、化工等领域。高纯钼的纯度对其性能和应用有着至关重要的影响。因此，对高纯钼中痕量杂质元素的测定显得尤为重要。

本标准采用辉光放电质谱法进行高纯钼中痕量杂质元素的测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、选择性好等优点，能够同时测定多种元素，适用于高纯度金属材料中痕量杂质元素的测定。

本标准的具体操作步骤如下：

1. 样品的制备

将高纯钼样品加入石英坩埚中，加入适量的氧化铝和氧化铁，混合均匀后在电炉中加热至1000℃，保温2小时，使样品中的杂质元素与氧化铝和氧化铁反应生成氧化物，然后冷却至室温。

2. 样品的溶解

将经过烧结处理的高纯钼样品取出，加入适量的氢氟酸和硝酸，加热溶解，得到样品溶液。

3. 辉光放电质谱分析

将样品溶液注入辉光放电质谱仪中，进行分析。根据样品中元素的不同，选择不同的分析条件，如激发电压、放电电流等。通过测定样品中元素的相对强度，计算出其含量。

4. 结果的计算

根据分析结果，计算出样品中各元素的含量。计算公式如下：

C = (I / K) × V / m

其中，C为元素的含量，单位为μg/g；I为元素的相对强度；K为校正系数；V为样品溶液的体积，单位为mL；m为样品的质量，单位为g。

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