锑铍芯块是一种用于制造半导体器件的材料，其中硅含量是一个重要的指标。本标准规定了锑铍芯块中硅含量的测定方法，采用电感耦合等离子体原子发射光谱法进行分析。

电感耦合等离子体原子发射光谱法是一种常用的化学分析方法，具有高精度、高灵敏度、高选择性等优点。该方法通过将样品中的元素转化为原子态，然后利用电感耦合等离子体激发原子发射光谱进行分析。该方法适用于多种材料中元素含量的测定，包括金属、非金属、有机物等。

本标准中，锑铍芯块样品经过预处理后，采用电感耦合等离子体原子发射光谱法进行分析。具体步骤如下：

1. 样品制备：将锑铍芯块样品研磨成粉末，并加入适量的氢氧化钠和氢氧化钾，使其完全溶解。

2. 样品处理：将样品溶液经过过滤和稀释处理，使其适合于电感耦合等离子体原子发射光谱法分析。

3. 仪器分析：将样品溶液注入电感耦合等离子体原子发射光谱仪中，进行分析。根据硅元素的发射光谱，可以计算出样品中硅的含量。

本标准中，还规定了样品制备、样品处理、仪器分析等方面的详细要求，以保证分析结果的准确性和可靠性。

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