高锰铝青铜是一种具有高强度、高硬度、高耐磨性和耐蚀性的铜合金，广泛应用于制造螺旋桨等船舶零部件。硅是高锰铝青铜中的一种重要元素，对其性能有着重要的影响。因此，准确测定高锰铝青铜中的硅量对于保证其性能具有重要意义。

本标准采用电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-AES）测定高锰铝青铜中的硅量。具体操作步骤如下：

1.试样的制备

将高锰铝青铜试样研磨成粉末状，取约0.5g试样，加入100ml三氧化二氮（N2O3）和10ml硝酸（HNO3）混合液中，加热至试样完全溶解，冷却后加入去离子水至100ml，摇匀备用。

2.仪器的校准

使用标准参考物质校准仪器，确保仪器的准确性和精度。

3.样品的测定

将试样液注入ICP-AES仪器中，测定硅的发射光谱强度，根据标准曲线计算出硅的含量。

4.结果的计算

将测定结果乘以适当的稀释倍数，得到高锰铝青铜中硅的含量。

本标准适用于高锰铝青铜中硅量的测定，具有操作简便、准确可靠等优点。

相关标准
- GB/T 1176-2017 铜及铜合金化学分析方法
- GB/T 5121.1-2008 铜及铜合金化学分析方法 第1部分：总量测定
- GB/T 5121.2-2008 铜及铜合金化学分析方法 第2部分：铝量的测定
- GB/T 5121.3-2008 铜及铜合金化学分析方法 第3部分：铁量的测定
- GB/T 5121.4-2008 铜及铜合金化学分析方法 第4部分：锰量的测定