JC/T 995-2006
低比表面积高烧结活性氧化锆粉体
发布时间:2006-03-07 实施时间:2006-08-01


氧化锆粉体是一种重要的高新材料,广泛应用于陶瓷、电子、化工、医药等领域。低比表面积高烧结活性氧化锆粉体是氧化锆粉体中的一种,具有烧结性能好、热稳定性高、机械性能优异等特点,是制备高性能氧化锆陶瓷的重要原材料。

本标准规定了低比表面积高烧结活性氧化锆粉体的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。其中,技术要求包括化学成分、比表面积、烧结活性、杂质含量等指标;试验方法包括化学分析、比表面积测定、烧结活性测定、杂质含量测定等;检验规则包括抽样、检验、判定等;标志包括产品名称、生产厂家、生产日期等;包装、运输和贮存要求包括包装材料、包装方式、运输方式、贮存条件等。

本标准适用于生产和检验低比表面积高烧结活性氧化锆粉体的企业和检验机构。

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