JB/T 7505-1994
离子镀术语
发布时间:1994-12-09 实施时间:1995-10-01
离子镀是一种表面处理技术,通过在真空环境下,将金属离子或分子沉积在基材表面,形成一层薄膜。离子镀技术广泛应用于电子、光学、航空航天、汽车等领域。为了规范离子镀领域中的术语和定义,JB/T 7505-1994 离子镀术语标准被制定出来。
该标准共包含了离子镀领域中的60个术语和定义,其中包括了离子源、离子束、离子束轰击、离子束淀积、离子束雾化、离子束抛光等。这些术语和定义的规范化使用,有助于提高离子镀技术的研究和生产水平,促进离子镀技术的应用和推广。
除了术语和定义外,该标准还规定了离子镀领域中常用的单位和符号,如离子束密度的单位为A/cm²,离子束能量的单位为eV等。这些单位和符号的规范化使用,有助于提高离子镀技术的精度和可靠性。
总之,JB/T 7505-1994 离子镀术语标准是离子镀领域中的重要标准之一,它规范了离子镀领域中的术语和定义,有助于提高离子镀技术的研究和生产水平,促进离子镀技术的应用和推广。
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