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光学晶体是一种具有双折射性质的晶体，当晶体内部存在应力时，会导致双折射现象的改变。因此，通过测量光学晶体的双折射现象，可以得到晶体内部的应力分布情况。本标准旨在规定光学晶体应力双折射测量方法，以保证测量结果的准确性和可靠性。

1. 基本原理
光学晶体的双折射现象是由于晶体内部存在应力而引起的。当光线通过晶体时，由于晶体内部的应力分布不均匀，会导致光线的传播速度不同，从而产生双折射现象。通过测量双折射现象的大小和方向，可以得到晶体内部应力的大小和方向。

2. 仪器设备
光学晶体应力双折射测量需要使用特殊的仪器设备，包括光学显微镜、偏振片、光源、样品夹持装置、测量软件等。其中，光学显微镜是测量的核心设备，需要具备高分辨率、高放大倍数、高稳定性等特点。

3. 样品制备
样品制备是光学晶体应力双折射测量的重要环节。样品的制备需要保证样品的表面光洁度和平整度，以及样品内部应力分布的均匀性。通常采用机械加工、化学腐蚀、电解抛光等方法进行样品制备。

4. 测量程序
测量程序包括样品夹持、光源调节、偏振片调节、光学显微镜对焦、数据采集等步骤。在测量过程中需要注意保持样品的稳定性和光路的稳定性，以保证测量结果的准确性。

5. 数据处理和结果表示
测量得到的数据需要进行处理和分析，以得到样品内部应力的大小和方向。通常采用图像处理、数值计算等方法进行数据处理和分析。测量结果可以通过图表、数字等形式进行表示。

相关标准：
GB/T 19666-2005 光学晶体应力双折射测量方法
GB/T 19667-2005 光学晶体应力双折射测量仪
GB/T 19668-2005 光学晶体应力双折射测量数据处理方法
GB/T 19669-2005 光学晶体应力双折射测量结果表示方法
GB/T 19670-2005 光学晶体应力双折射测量不确定度评定方法