真空蒸发制镜镀膜设备是一种用于制造光学镜片、光学薄膜等光学元件的设备。本标准规定了该设备的技术条件，以确保设备的性能和质量。

一、设备组成
真空蒸发制镜镀膜设备由真空系统、蒸发源、控制系统、辅助设备等组成。其中，真空系统包括真空室、泵组、阀门等；蒸发源包括加热器、坩埚、蒸发材料等；控制系统包括温度控制、真空度控制、蒸发速率控制等；辅助设备包括冷却水系统、气体控制系统等。

二、设备性能
1.真空度：设备的最高真空度应达到5×10^-4Pa；
2.蒸发速率：设备的蒸发速率应在0.1~10A/s之间可调；
3.坩埚温度：设备的坩埚温度应在1000℃以上；
4.膜层均匀性：设备的膜层均匀性应在±5%以内；
5.膜层附着力：设备的膜层附着力应达到GB/T 9286-1998标准的一级要求。

三、设备结构
真空蒸发制镜镀膜设备应具有良好的密封性能，以确保设备的真空度。设备的加热器、坩埚等部件应具有良好的耐高温性能。设备的控制系统应具有高精度、高稳定性的控制能力。

四、工作条件
真空蒸发制镜镀膜设备应在干燥、无尘、无油、无腐蚀性气体的环境下工作。设备的操作人员应具有一定的专业知识和技能，严格遵守设备的操作规程和安全保护要求。

五、安全保护
真空蒸发制镜镀膜设备应具有完善的安全保护措施，包括过温保护、过流保护、过压保护、漏电保护等。设备的操作人员应定期进行安全检查和维护保养。

相关标准
GB/T 9286-1998 金属材料膜层附着力试验方法
GB/T 13310-1991 真空技术术语
GB/T 13311-1991 真空技术真空计量单位
GB/T 13312-1991 真空技术真空泵术语
GB/T 13313-1991 真空技术真空度测量方法