一、范围
本标准适用于用于制备金属、合金、化合物、陶瓷、玻璃等材料的真空离子镀膜设备。
二、术语和定义
本标准所涉及的术语和定义见GB/T 2900.1。
三、技术要求
1. 设备应符合设计要求,结构合理,操作方便,安全可靠。
2. 设备应具有良好的真空性能,真空度应符合设计要求。
3. 设备应具有良好的电子束发射性能,电子束功率应符合设计要求。
4. 设备应具有良好的离子源性能,离子源功率应符合设计要求。
5. 设备应具有良好的镀膜性能,镀膜速率应符合设计要求。
6. 设备应具有良好的控制性能,控制系统应符合设计要求。
7. 设备应具有良好的加热性能,加热系统应符合设计要求。
8. 设备应具有良好的冷却性能,冷却系统应符合设计要求。
9. 设备应具有良好的气体控制性能,气体控制系统应符合设计要求。
10. 设备应具有良好的机械性能,机械部件应符合设计要求。
11. 设备应具有良好的电气性能,电气部件应符合设计要求。
12. 设备应具有良好的安全性能,应符合国家相关安全标准。
四、检验方法
1. 设备的检验应按照设计文件和本标准的要求进行。
2. 设备的检验应包括外观检查、尺寸检查、真空性能检查、电子束发射性能检查、离子源性能检查、镀膜性能检查、控制性能检查、加热性能检查、冷却性能检查、气体控制性能检查、机械性能检查、电气性能检查和安全性能检查等项目。
3. 设备的检验应由制造单位进行,检验结果应记录在检验报告中。
五、标志、包装、运输和贮存
1. 设备应在明显位置标注制造单位名称、型号、出厂编号、出厂日期等信息。
2. 设备应采用适当的包装材料进行包装,以保证在运输过程中不受损坏。
3. 设备在运输过程中应注意防潮、防震、防晒等措施。
4. 设备在贮存过程中应注意防潮、防尘、防腐蚀等措施。
相关标准
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