JB/T 9495.7-1999
光学晶体光学均匀性测量方法
发布时间:1999-08-06 实施时间:2000-01-01


光学晶体是一种具有特殊光学性质的晶体,其光学性质的均匀性对于光学器件的性能有着重要的影响。因此,对于光学晶体的光学均匀性进行测量是非常必要的。

本标准规定了光学晶体光学均匀性测量的方法。测量时需要使用一台光谱仪和一台样品旋转台。首先,将样品放置在样品旋转台上,并将光谱仪与样品旋转台对准。然后,通过旋转样品旋转台,使得样品中心的位置不变,但是样品的不同位置对应的光谱数据可以被测量到。最后,通过对测量到的光谱数据进行分析,可以得到样品的光学均匀性。

在进行测量时,需要注意以下几点:

1. 样品的表面应该是光滑的,以避免表面的不均匀性对测量结果的影响。

2. 光谱仪的分辨率应该足够高,以保证测量到的光谱数据的准确性。

3. 样品旋转台的旋转速度应该适中,以保证测量到的光谱数据的稳定性。

4. 在测量过程中,应该避免外界光源的干扰,以保证测量结果的准确性。

总之,本标准规定了一种可靠的光学晶体光学均匀性测量方法,可以为光学器件的设计和制造提供重要的参考依据。

相关标准
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