半导体X射线能谱仪是一种用于分析物质成分的仪器。它通过测量物质对X射线的吸收和散射来确定物质的成分。半导体X射线能谱仪的工作原理是将X射线辐射通过半导体晶体，晶体中的电子被激发并跃迁到高能级，然后再回到低能级时会发射出能量等于跃迁能量的光子，这些光子就是能谱。通过测量能谱中的光子能量和数量，可以确定物质的成分。

IEC 60759:1983规定了半导体X射线能谱仪的测试程序，包括能谱分析和X射线分析。能谱分析是指对能谱进行处理和分析，以确定物质的成分和含量。X射线分析是指对X射线的特性进行分析，以确定X射线的能量和强度。

在进行能谱分析时，需要进行以下测试程序：

1. 能量刻度测试：通过测量标准样品的能谱，确定能谱中光子能量与实际能量之间的关系，以进行能量刻度。

2. 分辨率测试：通过测量标准样品的能谱，确定能谱中光子能量的分辨率，以评估仪器的分辨率性能。

3. 效率测试：通过测量标准样品的能谱，确定仪器的探测效率，以评估仪器的检测灵敏度。

在进行X射线分析时，需要进行以下测试程序：

1. 能量测试：通过测量标准样品的X射线能谱，确定X射线的能量，以进行能量刻度。

2. 强度测试：通过测量标准样品的X射线能谱，确定X射线的强度，以评估仪器的检测灵敏度。

IEC 60759:1983还规定了测试程序的具体步骤和要求，以确保测试结果的准确性和可靠性。该标准适用于半导体X射线能谱仪的测试和校准，以确保其准确性和可靠性。

相关标准
- IEC 61267:2005 半导体X射线能谱仪的性能评估方法
- IEC 62387:2017 半导体X射线能谱仪的能量刻度方法
- IEC 62629-1:2016 半导体X射线能谱仪的能量分辨率测量方法
- IEC 62629-2:2016 半导体X射线能谱仪的探测效率测量方法
- IEC 62629-3:2016 半导体X射线能谱仪的X射线能量测量方法