GB/T 23364.3-2009
高纯氧化铟化学分析方法 第3部分:锑量的测定 原子荧光光谱法
发布时间:2009-03-19 实施时间:2010-01-01


高纯氧化铟是一种重要的半导体材料,广泛应用于电子、光电、磁学等领域。其中,锑是高纯氧化铟中的一种杂质元素,其含量对高纯氧化铟的性能有着重要的影响。因此,准确测定高纯氧化铟中锑的含量,对于保证高纯氧化铟的质量和性能具有重要意义。

本标准采用原子荧光光谱法进行高纯氧化铟中锑量的测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点,能够满足高纯氧化铟中锑量的测定要求。

具体操作步骤如下:

1. 样品的制备

将高纯氧化铟样品称取一定量,加入适量的氢氟酸和硝酸,加热至完全溶解,转移至100 mL 容量瓶中,用去离子水定容至刻度线。

2. 仪器的准备

将原子荧光光谱仪预热至稳定状态,调整仪器参数,使其符合测定要求。

3. 样品的测定

将样品溶液注入原子荧光光谱仪中,进行锑元素的测定。根据仪器的测定结果,计算出样品中锑的含量。

4. 结果的计算

根据测定结果,计算出样品中锑的含量。计算公式如下:

锑含量(mg/kg)=(C×V)/m

其中,C为锑元素的浓度,单位为mg/L;V为样品溶液的体积,单位为mL;m为样品的质量,单位为g。

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