高纯氢氧化铟是一种重要的半导体材料，广泛应用于电子、光电、光学等领域。其中锑是高纯氢氧化铟中的一种杂质元素，其含量对高纯氢氧化铟的性能有很大影响。因此，准确测定高纯氢氧化铟中锑的含量是非常重要的。

本标准采用原子荧光光谱法进行高纯氢氧化铟中锑量的测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点。具体操作步骤如下：

1. 样品的制备

将高纯氢氧化铟样品称取0.5g，加入100mL三氧化二氮（N2O3）溶液中，加热至沸腾，使样品完全溶解。然后冷却至室温，用水稀释至100mL，摇匀备用。

2. 仪器的准备

将原子荧光光谱仪预热30分钟，调整好仪器的参数，使其达到最佳工作状态。

3. 标准曲线的绘制

取锑标准溶液，分别加入一定量的高纯氢氧化铟样品中，制成一系列不同浓度的混合溶液。然后用原子荧光光谱仪对这些混合溶液进行测定，得到各浓度下的锑信号强度。根据锑信号强度与锑浓度的线性关系，绘制出标准曲线。

4. 样品的测定

将经过制备的高纯氢氧化铟样品溶液，用原子荧光光谱仪进行测定，得到样品中锑的信号强度。根据标准曲线，计算出样品中锑的含量。

相关标准
GB/T 23362.1-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法 第1部分：总量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 23362.2-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法 第2部分：铜量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
GB/T 23362.4-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法 第4部分：铁量的测定 原子吸收光谱法
GB/T 23362.5-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法 第5部分：铅量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
GB/T 23362.6-2009 高纯氢氧化铟化学分析方法 第6部分：锡量的测定 火焰原子吸收光谱法