GB/T 23362.1-2009
高纯氢氧化铟化学分析方法 第1部分:砷量的测定 原子荧光光谱法
发布时间:2009-03-19 实施时间:2010-01-01


高纯氢氧化铟是一种重要的半导体材料,广泛应用于电子、光电、光学等领域。其中砷是高纯氢氧化铟中的一种杂质元素,其含量对材料的性能和质量有着重要的影响。因此,准确测定高纯氢氧化铟中砷的含量是非常必要的。

本标准采用原子荧光光谱法进行高纯氢氧化铟中砷量的测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点。具体操作步骤如下:

1. 样品的制备

将高纯氢氧化铟样品粉末加入石英坩埚中,加入适量的硝酸和氢氟酸,加热至完全溶解,再加入适量的硝酸和氢氟酸,继续加热至干燥,然后将样品加入石英坩埚中,加入适量的硝酸和氢氟酸,加热至完全溶解,转移至10ml量瓶中,加入去离子水至刻度,摇匀备用。

2. 仪器的准备

将原子荧光光谱仪预热至适当温度,调整氩气流量和氩气压力,进行仪器的校准和灵敏度测试。

3. 样品的测定

将样品溶液注入原子荧光光谱仪中,进行砷元素的测定。根据样品中砷元素的浓度,选择合适的工作曲线进行测定。测定结果应该在仪器的检测范围内,并且应该进行多次测定,取平均值作为最终结果。

4. 结果的计算

根据测定结果和工作曲线,计算出样品中砷元素的含量。计算公式如下:

C = (A - B) / k

其中,C为样品中砷元素的含量,A为样品的测定值,B为空白的测定值,k为工作曲线的斜率。

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