高纯氧化铟是一种重要的半导体材料，广泛应用于电子、光电、光学等领域。其中砷是高纯氧化铟中的一种杂质元素，其含量对高纯氧化铟的性能有很大影响。因此，准确测定高纯氧化铟中砷的含量是非常重要的。

本标准采用原子荧光光谱法进行高纯氧化铟中砷量的测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点。具体操作步骤如下：

1. 样品的制备

将高纯氧化铟样品称取0.5g，加入100mL三氧化二氮（N2O3）溶液中，加热至沸腾，使样品完全溶解。然后冷却至室温，用水稀释至100mL，摇匀备用。

2. 仪器的准备

将原子荧光光谱仪预热30min，调整好仪器的参数，如波长、灵敏度等。

3. 标准曲线的绘制

取一系列砷标准溶液，分别加入样品中，制成一系列不同浓度的砷样品溶液。然后用原子荧光光谱法分别测定这些样品溶液的砷含量，绘制出标准曲线。

4. 样品的测定

将样品溶液注入原子荧光光谱仪中，测定其砷含量。根据标准曲线计算出样品中砷的含量。

5. 结果的计算

将样品中砷的含量乘以稀释倍数，得到样品中砷的实际含量。

本标准的实施可以保证高纯氧化铟中砷的含量测定的准确性和可靠性，对于高纯氧化铟的生产和应用具有重要意义。

相关标准
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