电子薄膜是一种重要的电子材料，广泛应用于电子、光电、信息、通信等领域。而高纯铝及铝合金溅射靶材是制备电子薄膜的重要原材料之一。为了保证电子薄膜的质量和稳定性，需要对高纯铝及铝合金溅射靶材进行规范化管理和控制。GB/T 29658-2013《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》就是为此而制定的标准。

本标准主要包括以下内容：

1. 分类和命名

本标准将高纯铝及铝合金溅射靶材分为三类：高纯铝靶材、铝合金靶材和特殊合金靶材。同时，对于不同的靶材，还规定了相应的命名规则。

2. 要求

本标准对高纯铝及铝合金溅射靶材的化学成分、杂质含量、物理性能、表面质量、尺寸和形状等方面都做出了详细的要求。其中，化学成分和杂质含量是影响靶材质量的重要因素，物理性能和表面质量则直接关系到靶材的使用效果。

3. 试验方法

本标准规定了高纯铝及铝合金溅射靶材的化学成分、杂质含量、物理性能、表面质量、尺寸和形状等方面的试验方法。这些试验方法包括化学分析、光谱分析、金相分析、机械性能测试、表面检测等。

4. 检验规则

本标准对高纯铝及铝合金溅射靶材的检验规则做出了详细的规定。其中，包括检验方法、检验项目、检验标准、检验结果判定等方面的内容。

5. 标志、包装、运输和贮存

本标准规定了高纯铝及铝合金溅射靶材的标志、包装、运输和贮存要求。这些要求旨在保证靶材在运输和贮存过程中不受损坏和污染，以确保其质量和稳定性。

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