工业硅是一种重要的非金属矿产资源，广泛应用于电子、光电、化工、冶金等领域。工业硅中的杂质元素含量对其性能和质量有着重要的影响，因此需要对其进行分析测定。本标准规定了工业硅中杂质元素含量的测定方法，采用X射线荧光光谱法进行分析。

X射线荧光光谱法是一种非破坏性的化学分析方法，具有快速、准确、灵敏等优点。该方法利用样品受到X射线激发后，产生荧光辐射的特性，通过测量荧光辐射的强度和能量，可以确定样品中元素的含量。该方法适用于分析工业硅中的杂质元素含量，如铝、钙、铁、钾、镁、钠、磷、硅、钛、锰、铜、锌、铅、镉、铬、镍、钒、硒等元素。

本标准规定了样品的制备、仪器设备、分析条件、数据处理等方面的要求。其中，样品的制备需要将工业硅样品研磨成粉末，并进行干燥处理。仪器设备需要使用X射线荧光光谱仪进行分析，该仪器需要具备较高的分辨率和灵敏度。分析条件包括激发源、滤光器、荧光检测器等方面的要求。数据处理需要对荧光光谱进行峰位和峰面积的测定，并进行校正和计算。

本标准的实施可以保证工业硅中杂质元素含量的准确测定，为工业生产提供技术支持和质量保障。

相关标准
GB/T 14849.1-2014 工业硅化学分析方法 第1部分：总硅含量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 14849.2-2014 工业硅化学分析方法 第2部分：总铝含量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 14849.3-2014 工业硅化学分析方法 第3部分：总铁含量的测定 原子吸收光谱法
GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分：总钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 14849.6-2014 工业硅化学分析方法 第6部分：总钠含量的测定 火焰原子吸收光谱法