工业硅是一种重要的非金属矿产资源，广泛应用于电子、光电、化工、冶金等领域。然而，工业硅中常常含有各种杂质元素，如铝、钙、铁、钠、钾、镁、锰、磷、硅、钛、钨、锌等，这些杂质元素会影响工业硅的质量和性能，因此需要对其进行分析和检测。

GB/T 14849.4-2014是一项针对工业硅中杂质元素含量的测定标准，采用电感耦合等离子体原子发射光谱法进行分析。该标准规定了样品的制备方法、仪器设备的要求、分析方法、结果计算和报告等内容，具有以下特点：

1. 样品制备方法严格
样品制备是影响分析结果的重要因素之一，该标准规定了样品制备的方法和要求，包括样品的研磨、溶解、稀释等步骤，确保样品的均匀性和准确性。

2. 仪器设备要求高
电感耦合等离子体原子发射光谱法是一种高灵敏度、高分辨率的分析方法，该标准规定了仪器设备的要求，包括电感耦合等离子体发射光谱仪、气体供应系统、样品进样系统等，确保分析结果的准确性和可靠性。

3. 分析方法简便易行
该标准规定了分析方法的步骤和要求，包括仪器的预处理、样品的进样、分析条件的设置、数据的处理等，操作简便易行，适用于工业硅中杂质元素含量的快速测定。

4. 结果计算和报告规范
该标准规定了结果计算和报告的要求，包括结果的计算公式、数据的处理方法、结果的报告格式等，确保分析结果的准确性和可比性。

相关标准
GB/T 14849.1-2014 工业硅化学分析方法 第1部分：总硅含量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 14849.2-2014 工业硅化学分析方法 第2部分：总硅含量的测定 碱熔-原子吸收光谱法
GB/T 14849.3-2014 工业硅化学分析方法 第3部分：总硅含量的测定 碱熔-分光光度法
GB/T 14849.5-2014 工业硅化学分析方法 第5部分：总硅含量的测定 碱熔-电导法
GB/T 14849.6-2014 工业硅化学分析方法 第6部分：总硅含量的测定 碱熔-电位滴定法