工业硅是一种重要的工业原料，广泛应用于电子、光电、化工、冶金等领域。其中，铜是工业硅中的一种重要杂质元素，其含量对工业硅的质量和性能有着重要的影响。因此，准确测定工业硅中铜的含量是保证工业硅质量的重要手段之一。

本标准采用原子吸收光谱法测定工业硅中铜的含量。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点，适用于工业硅中铜含量的测定。

具体操作步骤如下：

1. 样品的制备

将工业硅样品研磨成粉末状，取约0.5g样品，加入10mL浓硝酸和2mL浓氢氟酸，加热至完全溶解，转移至100mL容量瓶中，用水稀释至刻度线。

2. 样品的原子吸收光谱测定

将样品溶液置于原子吸收光谱仪中，选择合适的铜谱线进行测定。根据样品中铜的含量，选择合适的工作曲线进行测定。测定时应注意仪器的校准和质控。

3. 结果的计算

根据测定结果和工作曲线，计算出样品中铜的含量。计算公式如下：

C（Cu）=A×k×d/V

其中，C（Cu）为样品中铜的含量（mg/kg），A为样品的吸光度，k为工作曲线的斜率，d为样品的稀释倍数，V为样品的体积（mL）。

4. 结果的报告

将测定结果报告出来，包括样品的编号、测定方法、测定结果等信息。

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