工业硅是一种重要的工业原料，广泛应用于电子、光电、化工、建筑等领域。其中汞是一种有害物质，对人体健康和环境造成危害。因此，对工业硅中汞含量的测定十分重要。

本标准采用原子荧光光谱法测定工业硅中汞含量。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点。具体操作步骤如下：

1.样品的制备
将样品粉末加入石英坩埚中，加入氢氧化钠和硝酸，加热至样品完全溶解，冷却后加入去离子水，定容至100mL。

2.仪器的准备
将原子荧光光谱仪预热至适当温度，调整仪器参数，使其符合测定要求。

3.样品的测定
将样品溶液注入原子荧光光谱仪中，测定汞的含量。

4.结果的计算
根据测定结果，计算出样品中汞的含量。

本标准适用于工业硅中汞含量的测定，适用于工业硅生产企业、检验机构等单位使用。

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