氧化铟锡靶材是一种用于物理气相沉积、磁控溅射等薄膜制备技术的材料。本标准主要针对氧化铟锡靶材的制备、性能、检验、包装、标志等方面进行规定。

一、制备要求
1. 原材料应符合相关标准要求，且应经过筛分、清洗等处理。
2. 制备过程中应控制好温度、气氛、时间等参数，确保制备出的氧化铟锡靶材质量稳定。
3. 制备出的氧化铟锡靶材应经过表面处理，以提高其表面平整度和附着力。

二、性能要求
1. 化学成分：氧化铟锡靶材的化学成分应符合标准要求。
2. 相对密度：氧化铟锡靶材的相对密度应不低于95%。
3. 电阻率：氧化铟锡靶材的电阻率应符合标准要求。
4. 粒度：氧化铟锡靶材的粒度应符合标准要求。
5. 表面平整度：氧化铟锡靶材的表面平整度应符合标准要求。
6. 附着力：氧化铟锡靶材的附着力应符合标准要求。

三、检验要求
1. 化学成分检验：采用化学分析方法进行检验。
2. 相对密度检验：采用比重法进行检验。
3. 电阻率检验：采用四探针法进行检验。
4. 粒度检验：采用激光粒度仪进行检验。
5. 表面平整度检验：采用显微镜等方法进行检验。
6. 附着力检验：采用刮痕法等方法进行检验。

四、包装要求
1. 氧化铟锡靶材应采用防震、防潮、防腐蚀等包装材料进行包装。
2. 包装应符合运输要求，确保氧化铟锡靶材在运输过程中不受损坏。

五、标志要求
1. 包装上应标明氧化铟锡靶材的名称、规格、批号、生产厂家等信息。
2. 氧化铟锡靶材本身应标明名称、规格、批号、生产日期等信息。

相关标准
GB/T 20509-2017 氧化铟靶材
GB/T 20511-2017 氧化锡靶材
GB/T 20512-2017 氧化铟靶材的检验方法
GB/T 20513-2017 氧化锡靶材的检验方法
GB/T 20514-2017 物理气相沉积用靶材的包装