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颗粒状多晶硅是一种重要的半导体材料，广泛应用于电子、光电、太阳能等领域。为了保证颗粒状多晶硅的质量，需要对其进行全面的评价。本标准规定了颗粒状多晶硅的区熔法和光谱分析法评价方法，以确保其质量符合要求。

一、颗粒状多晶硅的化学成分评价方法
颗粒状多晶硅的化学成分评价方法主要包括化学分析和质谱分析两种方法。其中，化学分析方法包括氧化铝分析、氧化硅分析、氧化钙分析、氧化铁分析、氧化钠分析、氧化钾分析、氧化镁分析、氧化钡分析等。质谱分析方法包括电感耦合等离子体质谱法、飞行时间质谱法、四极杆质谱法等。

二、颗粒状多晶硅的杂质含量评价方法
颗粒状多晶硅的杂质含量评价方法主要包括电感耦合等离子体质谱法、电感耦合等离子体发射光谱法、电感耦合等离子体原子发射光谱法、电感耦合等离子体质谱法等。

三、颗粒状多晶硅的晶体结构评价方法
颗粒状多晶硅的晶体结构评价方法主要包括X射线衍射法、中子衍射法、电子衍射法等。

四、颗粒状多晶硅的晶体缺陷评价方法
颗粒状多晶硅的晶体缺陷评价方法主要包括X射线衍射法、拉曼光谱法、电子自旋共振法等。

五、颗粒状多晶硅的晶体尺寸和形态评价方法
颗粒状多晶硅的晶体尺寸和形态评价方法主要包括扫描电子显微镜法、透射电子显微镜法、原子力显微镜法等。

相关标准：
GB/T 35308-2017 颗粒状多晶硅的制备方法
GB/T 35310-2017 颗粒状多晶硅的物理性能测试方法
GB/T 35311-2017 颗粒状多晶硅的化学性能测试方法
GB/T 35312-2017 颗粒状多晶硅的应用试验方法
GB/T 35313-2017 颗粒状多晶硅的包装、运输和储存方法