金属锗是一种重要的半导体材料，广泛应用于电子、光电、太阳能等领域。其中砷是金属锗中的一种杂质元素，其含量对金属锗的性能有很大影响。因此，准确测定金属锗中砷的含量对于保证金属锗的质量和性能具有重要意义。

本标准采用砷斑法进行测定，其基本原理是将金属锗样品中的砷还原成金属砷，然后在石英管中进行砷斑的形成，最后用电感耦合等离子体质谱仪进行测定。该方法具有灵敏度高、准确度高、重现性好等优点。

具体操作步骤如下：

1.样品的制备

将金属锗样品粉碎并混匀，取约0.5g样品，加入10mL浓盐酸和2mL浓硝酸，加热至完全溶解，冷却后转移至100mL容量瓶中，用去离子水定容。

2.还原砷

取10mL样品溶液，加入5mL浓氢氟酸和5mL浓硫酸，加热至溶解，冷却后加入5mL浓氢氧化钠溶液，再加入5mL浓氢氧化钾溶液，加热至沸腾，使砷还原成金属砷。

3.砷斑的形成

将还原后的样品溶液转移至石英管中，加入适量的氢气，使砷在石英管内形成砷斑。

4.测定

将石英管放入电感耦合等离子体质谱仪中进行测定，得出砷的含量。

本标准的实施可以保证金属锗中砷含量的准确测定，为金属锗的生产和应用提供了可靠的技术支持。

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